1 / 13
Kom en tur med indenfor hos IBM Research i Zürich og se, hvordan virksomhedens forskere forbedrer de avancerede computerchips.
Forskningen foregår i et af verdens reneste rum i Binnig and Rohrer Nanotechnology Center, hvor der bestemt ikke er adgang for det almindelige rengøringspersonale.
Her kan selv de mindste støvkorn nemlig ødelægge det kostbare materiale, som virksomhedens ansatte arbejder med.
2 / 13
I forgrunden ses et såkaldt Scanning Electron Microscope (SEM), der bruges til at undersøge strukturer med dimensioner på nano niveau.
3 / 13
Direct Laser Writeren bruges til at skrive mønstre direkte på de såkaldte wafers, der er et af grundelementerne i en computerchip.
Den gule belysning i rummet er etableret, fordi visse komponenter ganske enkelt ikke kan tåle almindelig hvid belysning.
4 / 13
Refractometer, der gennem optisk teknologi bruges til at måle tykkelsen på film af transparent materiale, eksempelvis på en silicium wafer.
5 / 13
Elipsometer, der som refractometeret fra billede nummer tre også bruges til at måle tykkelsen på transparent film, men her er Elipsometer-apparatet mere præcist.
6 / 13
Wafer Bonder
7 / 13
Fire tommer silicium wafere. Silicium er grundmaterialet i stort set al elektronik i dag. Det er det ottende mest forekommende grundstof i universet og det næstmest forekommende i jordens skorpe, så det er hverken sjældent eller giftigt.
8 / 13
To tommer wafer dækket af silicium dioxid, deraf den blå farve, og med lithografiske mønstre.
9 / 13
En Critical Point Dryer, der bruges til tørring af MEMS (Micro-electro-mechanical-structures), der er meget små mekaniske strukturer, eksempelvis membraner. Apparatet bruges fordi traditionel opvarmning kan få MEMS strukturerne til at kollapse.
10 / 13
XeF2 ætser. XeF2 er en gas, der kan bruges til at fjerne silicium for oxider og flere andre typer af uønskede materialer.
11 / 13
En optisk maske, der består af en quartzplade, som bruges til at printe bestemte mønstre på wafer materialet.
12 / 13
Denne maskine bruges til at lave en maske på waferen. Ved at belyse åbningerne i masken opløses eller forstærkes laget i waferen nedenunder.
13 / 13
Skidt og støv er forskernes fjende nummer ét, og derfor er den såkaldte renrums-dragt obligatorisk påklædning i lokalerne med de avancerede maskiner og det specielle materiale.